Systèmes de dépôt
Famille de systèmes de dépôt
1. MBE
2. PLD
3. CVD
4. HIPIMS
5. Sputter deposition
6. Thermal evaporation
7. ...
PREVAC est un leader mondial dans la fabrication d'instruments de recherche scientifique UHV et d'investigation sur les propriétés chimiques et physiques de surfaces semi-conductrices, de couches minces et de nano-matériels. PREVAC conçoit aussi des systèmes personnalisés de dépôt et d'analyse. De plus, PREVAC offre une large gamme de composants : sources d’émission (ions, électrons, rayons X/UV/thermiques), chambres de conditionnement, transfert et manipulation d’échantillon. Les systèmes et composants PREVAC sont installés de part le monde.
Voici quelques projets réalisés :
Système MBE
Système PLD
Système de pulvérisation magnétron
Système MBE autonome UHV pour multi-couches métalliques à base de matériaux magnétiques et non magnétiques. Le système comprend également une analyse RHEED in situ.
Le système UHV comprend une chambre de traitement avec équipement auxiliaire ainsi qu’un sas de chargement. La pression de base de la chambre de traitement est mieux garantie dans la plage de 10 à 10 mbar. Le système est équipé de plusieurs sources EBV, de cellules EF et de pistolets électroniques haute puissance. Le processus de dépôt peut être contrôlé sur une large plage de température allant du LN2 à 1 000 ° C. Une caractéristique unique de ce système est que l’étage de montage de la source sur la face inférieure de la chambre est conçu de manière à pouvoir être échangé sans effort. Un logiciel (basé sur un automate) permet une totale liberté de création de programmes. L'utilisateur peut définir une séquence d'étapes effectuées sur tout appareil enregistré dans le système. De plus, des séquences peuvent être empilées dans le programme, où il est possible d'appeler des séquences individuelles cycliques et des groupes entiers. L'éditeur de processus permet différents types d'opération sur les séquences: copier, déplacer (changer l'ordre des appels), supprimer, modifier les étapes, etc.
Système UHV entièrement automatisé dédié aux applications PLD.
- Chambre de traitement avec une pression de base meilleure que 5 x 10-10 mbar. Permet le dépôt de couches minces sur le substrat et leur caractérisation in situ par les méthodes RHEED. La chambre principale contient des ports pour par exemple Pistolet et écran RHEED, source d'ions, moniteur de flux de faisceau, balances à quartz, cellules d'épanchement, jauges à vide, système de dosage de gaz, etc.
- Manipulateur de cible motorisé à 3 axes avec mécanisme de revolver pouvant contenir jusqu'à 6 porte-cibles. Dédié aux détenteurs de PTS cibles 1 ".
- Manipulateur de substrat motorisé à 5 axes avec chauffage jusqu'à 1200 ° C ou refroidissement LN2 (pour supports PTS de substrat 1 ").
- Manipulateur motorisé à 1 axe pour couches de masques et masques.
- Verrouillage de la charge avec transfert linéaire pour une introduction rapide et facile des porte-substrats / cibles. Capable de stocker jusqu'à 8 détenteurs de PTS.
- Système de dosage de gaz automatique pour une entrée de gaz rapide.
Système de recherche et développement pour le revêtement en couches minces de substrats avec différents matériaux.
Système de dépose préparé pour un agencement plan et confocal «pulvérisation cathodique» et compatible avec la technologie du processus de soulèvement photolithographique.
- Processus de transfert et de dépôt entièrement automatisé
- Chambre de traitement avec cinq ports DN 160CF pour les magnétrons, équipée de protections contre la contamination croisée et d'une porte d'aspiration pour un accès rapide et facile à tous les composants montés dans la chambre
- Pression de base: <5 x 10-7 mbar
- Support manipulateur porte-substrat à 2 stations (géométrie de pulvérisation plane et confocale). Les stations sont prêtes à transporter des tranches d’un diamètre allant jusqu’à 100 mm ou des substrats cylindriques de 50 x 50 mm. Les deux stations ont une stabilisation thermique.
- Verrouillage / stockage pour jusqu'à 6 supports avec porte d'accès facile
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